凯发在线平台天生赢家 一触即发★★ღღ，凯发k8国际首页登录★★ღღ，凯发K8官网★★ღღ，复材工业★★ღღ，k8凯发★★ღღ，中微公司(688012) l投资要点 营收利润双增彰显成长动能★★ღღ，研发投入高增驱动技术突破★★ღღ。 2025H1公司实现营收49.61亿元★★ღღ，同比增长43.88%★★ღღ。其中★★ღღ，2025H1刻蚀设备销售37.81亿元★★ღღ，同比增长40.12%★★ღღ；LPCVD设备销售1.99亿元★★ღღ，同比增长608.19%★★ღღ；公司针对先进逻辑和存储器件制造中关 键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升★★ღღ，在先进逻辑器件和先进存储器件中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产★★ღღ。2025H1公司实现归母净利润7.06亿元★★ღღ，同比增长36.62%★★ღღ，主要系★★ღღ：1）2025H1营业收入增长43.88%下★★ღღ，毛利较去年增加5.52亿元★★ღღ。2）2025H1公司研发投入总额14.92亿元★★ღღ，同比增加53.70%★★ღღ，研发投入总额占营收比例为30.07%★★ღღ，远高于科创板上市公司的平均研发投入水平（10%-15%）★★ღღ。公司目前在研项目涵盖六类设备★★ღღ，包含多个关键制程工艺的核心设备开发★★ღღ。2025H1研发费用11.16亿元★★ღღ，同比增长96.65%★★ღღ。3）公司以公允价值计量且其变动计入当期损益的对外股权投资于2025H1产生公允价值变动收益和投资收益合计约1.68亿元★★ღღ，较2024H1亏损的0.08亿元增加约1.76亿元★★ღღ。 推出六款半导体设备新产品★★ღღ，加速迈向高端设备平台化★★ღღ。随着半导体技术的迭代升级★★ღღ，等离子体刻蚀★★ღღ、原子层沉积及外延等技术的应用需求持续攀升★★ღღ。公司近日推出六款半导体设备新产品★★ღღ，覆盖等离子体刻蚀★★ღღ、原子层沉积及外延等关键工艺★★ღღ。在刻蚀技术方面★★ღღ，公司此次发布的两款新品分别在极高深宽比刻蚀及金属刻蚀领域为客户提供了领先和高效的解决方案★★ღღ。在薄膜沉积技术方面★★ღღ，公司此次发布的四款新品★★ღღ，包括三款原子层沉积产品以及一款外延产品★★ღღ，其中★★ღღ，公司推出的12英寸原子层沉积产品能够满足先进逻辑与先进存储器件在金属栅方面的应用需求★★ღღ。外延设备凭借卓越的工艺适应性和兼容性★★ღღ，可满足从成熟到先进节点的逻辑★★ღღ、存储和功率器件等多领域外延工艺需求★★ღღ。这六款半导体设备新产品可进一步满足客户需求★★ღღ，拓展公司产品布局★★ღღ，为加速向高端设备平台化公司转型注入新动能★★ღღ。 平台型领军厂商持续受益于下游扩产与国产替代进程★★ღღ。中国的集成电路和泛半导体产业近年来持续兴旺★★ღღ。在政府的大力推动和业界的努力下★★ღღ，在半导体设备的门类★★ღღ、性能和大规模量产能力等方面★★ღღ，国产设备和国外设备相比正在快速缩小差距★★ღღ，发展迅速并已初具规模★★ღღ，中国大陆半导体设备市场规模在全球的占比逐年提升★★ღღ。根据SEMI★★ღღ，在先进逻辑★★ღღ、存储和技术转型带动下★★ღღ，2026年半导体制造设备销售额有望进一步提高至1,300亿美元★★ღღ，中国大陆★★ღღ、中国台湾和韩国仍将是设备支出的前三大区域★★ღღ。根据Yole★★ღღ，中国大陆有望在2030年成为全球最大的半导体晶圆代工中心★★ღღ，预计占全球总装机产能比例将由2024年的21%提升至30%★★ღღ。公司作为国内半导体设备平台型领军厂商★★ღღ，预计未来五到十年★★ღღ，将通过自主研发以及携手行业合作伙伴★★ღღ，覆盖集成电路关键领域包括刻蚀★★ღღ、薄膜等超过60%的设备市场★★ღღ，工艺覆盖度不断完善★★ღღ，国内份额持续提升★★ღღ，将持续受益于下游扩产★★ღღ、技术升级与国产替代进程★★ღღ。 投资建议 我们预计公司2025/2026/2027年分别实现收入121/157/198亿元★★ღღ，分别实现归母净利润21/32/45亿元★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示 下游客户扩产不及预期的风险★★ღღ，员工股权激励带来的公司治理风险★★ღღ，政府支持与税收优惠政策变动的风险★★ღღ，供应链风险★★ღღ，行业政策变化风险★★ღღ，国际贸易摩擦加剧风险★★ღღ，研发投入不足导致技术被赶超或替代的风险★★ღღ。

　　中微公司(688012) l事件 公司2025年第二季度实现营业收入28亿元★★ღღ，同比增加51%★★ღღ，环比增加28%★★ღღ；归母净利润4亿元★★ღღ，同比增加47%★★ღღ，环比增加25%★★ღღ；扣非净利2亿元★★ღღ，同比增加9%★★ღღ，环比减少19%★★ღღ。 公司2025年上半年实现营业收入50亿元★★ღღ，同比增加44%★★ღღ；归母净利润7亿元★★ღღ，同比增加37%★★ღღ；扣非净利5亿元★★ღღ，同比增加11%★★ღღ。 l刻蚀设备快速增长★★ღღ，LPCVD实现收入突破 2025年上半年★★ღღ，公司刻蚀设备销售收入达38亿元★★ღღ，同比增长约40%★★ღღ。LPCVD设备销售约2亿元★★ღღ，同比大增608%★★ღღ。截至2025年上半年★★ღღ，CCP设备累计装机量超4500个反应台★★ღღ，其中双反应台机型突破3300个★★ღღ，单反应台机型近1200个★★ღღ；ICP刻蚀累计装机量超过1200个反应台★★ღღ。公司的等离子体刻蚀设备已应用于国际一线纳米工艺的生产线★★ღღ。 l研发驱动战略成效显著★★ღღ，不断创新构建多元产品矩阵 公司通过内生增长和外延扩张相结合的策略★★ღღ，积极探索新兴领域★★ღღ，2025年上半年★★ღღ，公司研发投入同比增长54%★★ღღ，占营收的30%★★ღღ，同时★★ღღ，公司研发速度实现跨越式提升★★ღღ，将新设备的开发周期从3到5年缩短至2年甚至更短时间★★ღღ。9月4日★★ღღ，公司在CSEAC2025发布六款新品★★ღღ，包括等离子体刻蚀★★ღღ、ALD及外延等关键工艺★★ღღ。在核心的刻蚀技术上★★ღღ，公司新一代极高深宽比CCP刻蚀机Primo UD-RIE★★ღღ，凭借自主研发的动态边缘阻抗调节系统在厂里跟很多人睡过★★ღღ，攻克了行业工艺难题★★ღღ，为生产先进存储芯片提供了有力保障★★ღღ。全球首款双腔减压外延设备PRIMIO Epita RP★★ღღ，以全球最小反应腔的创新设计★★ღღ，实现了高效率与低成本的结合★★ღღ。在薄膜沉积领域★★ღღ，PreformaUniflash设备采用独创的双反应台设计★★ღღ，将生产效率和工艺性能提升至世界先进水平★★ღღ。公司正通过一系列突破性创新★★ღღ，强化其在半导体核心设备领域的领先地位 l投资建议 我们预计2025-2027年公司归母净利润分别为24.76★★ღღ、34.13★★ღღ、42.94亿元★★ღღ，对应的EPS分别为3.95★★ღღ、5.45★★ღღ、6.86元★★ღღ，对应最新收盘价PE分别为73x★★ღღ、53x★★ღღ、42x★★ღღ。维持公司“买入”评级★★ღღ。 l风险提示 研发进度不及预期★★ღღ、产业竞争加剧★★ღღ、贸易摩擦加剧★★ღღ。

　　中微公司(688012) 存储器电路结构复杂拉动刻蚀/沉积需求★★ღღ：此前★★ღღ，我们曾在主题报告和北方华创首次覆盖报告中阐述逻辑电路制程升级会增加刻蚀和沉积设备需求★★ღღ，本文中★★ღღ，我们深度剖析3DNAND的制作过程★★ღღ，随着3DNAND的堆叠层数增加★★ღღ，沉积和刻蚀步骤也将相应增加★★ღღ，且多次薄膜沉积的面积相应增大★★ღღ，对刻蚀的深宽比要求也随之提高★★ღღ。随着我国国产3DNAND产品接近国际领先的232层水平★★ღღ，我们预测★★ღღ，2025年国产NAND在全球市场市占率或达9%★★ღღ。3DNAND对光刻设备需求较低★★ღღ，而对刻蚀设备需求则较高★★ღღ，这正是中微公司擅长的领域★★ღღ。 刻蚀设备产品在我国市场或有竞争优势★★ღღ：公司通过提高深宽比指标★★ღღ、开发单双反应台设备★★ღღ、开发可调节电极间距的CCP刻蚀机等策略★★ღღ，使得产品不仅在中国内地领先同业★★ღღ，技术能力亦触及海外先进制程领域★★ღღ。CCP产品在中国内地起步较早★★ღღ，我们认为★★ღღ，公司刻蚀产品在2024年实现营收72.8亿元（人民币★★ღღ，下同）的基础上★★ღღ，ICP出货量增速或在2025年或高于CCP的增速★★ღღ，我们预测CCP/ICP2025年收入分别为51.4/45.7亿元（合计97.0亿元）★★ღღ。我们预测ICP收入在2026年超过CCP收入★★ღღ，CCP/ICP收入分别达到60.0/62.6亿元★★ღღ。 薄膜沉积市场广阔★★ღღ，或成中微公司另一大增长引擎★★ღღ。截至2024年底★★ღღ，公司已开发出六种金属薄膜沉积产品★★ღღ，其中钨金属沉积2024年收入1.56亿元★★ღღ，另有近40种产品正在开发中★★ღღ。考虑到公司2024年底尚有4.76亿元薄膜沉积订单★★ღღ，并积极拓展包括氮化钛ALD★★ღღ、钛铝ALD和EPI等新产品★★ღღ。我们预测2025/2026年沉积业务分别收入4.98/9.60亿元★★ღღ。我们同时认为公司MOCVD业务在经历两年调整后★★ღღ，或在2025年恢复增长★★ღღ。 首予买入★★ღღ，目标价280元人民币★★ღღ。我们首予公司买入评级★★ღღ，股价有望充分受益于包括ICP在内的刻蚀设备产品进一步获得市场认可★★ღღ，且自身薄膜沉积设备矩阵不断完善★★ღღ，我们预测2025年新增订单或继续保持同比增长★★ღღ。我们预测2025/26年营业收入123.0亿/159.3亿元（同比分别增36%/30%）★★ღღ；公司毛利率稳定在40%左右★★ღღ，研发费用短期处于高位★★ღღ，并预计2025/26年EPS3.38/4.94元K8天生赢家一触发★★ღღ。公司估值相对于可比公司一直存在溢价★★ღღ。2023年来公司平均市盈率NTM为47.4倍★★ღღ，标准差9.2倍★★ღღ，现价对应53.6倍★★ღღ。我们首次覆盖中微公司★★ღღ，考虑半导体设备需求高于市场之前预期★★ღღ，先进制程需求在AI驱动下上升★★ღღ，目标价280元★★ღღ，对应56.6倍（高于历史平均1个标准差）2026年市盈率★★ღღ。

　　中微公司(688012) 结论与建议★★ღღ： 作为国内半导体刻蚀设备领域的龙头★★ღღ，公司不断向其他领域（薄膜★★ღღ、量检测）扩张★★ღღ。公司预计未来五到十年★★ღღ，将通过自主研发以及外延幷购等方式★★ღღ，实现对集成电路关键领域超过60%的设备市场的覆盖★★ღღ，成长空间进一步打开★★ღღ。 同时★★ღღ，伴随中美贸易摩擦升级★★ღღ，先进制程的产能问题已经成为制约中国AI产业发展的最核心问题★★ღღ，因此我们预计2H25开始★★ღღ，中国会有更多资金★★ღღ、政策向包括光刻机★★ღღ、EDA工具在内的先进制程倾斜★★ღღ，中国半导体产业有望迎来先进工艺扩张的结构性契机★★ღღ。目前公司股价对应2027年PE35倍★★ღღ，给予买进的评级★★ღღ。 1H25营收继续高速增长★★ღღ，新设备收入增长迅猛★★ღღ：2025年上半年公司实现营收49.6亿元★★ღღ，同比增长43.9%;其中刻蚀设备收入为37.8亿元★★ღღ，同比增40.1%;LPCVD设备实现收入2.0亿元★★ღღ，同比增608%★★ღღ，公司新设备业务展露峥嵘★★ღღ。1H25公司实现净利润7.06亿元★★ღღ，同比增36.6%★★ღღ。公司预计未来五到十年★★ღღ，将通过自主研发以及外延幷购等方式★★ღღ，实现对集成电路关键领域超过60%的设备市场的覆盖★★ღღ，成长空间进一步打开★★ღღ。 中国先进制程扩张★★ღღ，有利公司份额提升★★ღღ：美国对中国半导体产业持续施压★★ღღ，多次对于中国晶圆制造★★ღღ、设计关键设备及工具造成断供的威胁★★ღღ。因此★★ღღ，中国在高阶GPU产品★★ღღ、存储产品的需求缺口急需用先进制程来填补★★ღღ。可以预见从2H25开始★★ღღ，中国会有更多资金★★ღღ、政策向包括光刻机★★ღღ、EDA工具在内的先进制程倾斜★★ღღ，中国半导体产业有望迎来新一轮先进工艺产能扩张★★ღღ。公司作为国内核心半导体设备企业★★ღღ，在刻蚀★★ღღ、薄膜领域有相当的技术储备★★ღღ，有望在中国发展先进制程的过程中受益★★ღღ。 盈利预测★★ღღ：我们预计公司2025-27年实现净利润21亿元★★ღღ、30.9亿元和40.3亿元★★ღღ，YOY分别增长31%★★ღღ、46%和30%★★ღღ，EPS分别为3.71元★★ღღ、5.14元和6.74元★★ღღ，目前股价对应2025-27年PE分别为67倍★★ღღ、46倍和35倍★★ღღ，考虑到中美科技争端激烈★★ღღ，半导体设备本土化需求迫切★★ღღ，给予买进的评级★★ღღ。 风险提示★★ღღ：半导体设备需求下降★★ღღ。

　　中微公司(688012) 投资要点 事件★★ღღ：9月4日中微公司在第十三届半导体设备与核心部件及材料展上推出六款新设备★★ღღ，涵盖高深宽比&选择比刻蚀★★ღღ、ALD★★ღღ、EPI等设备★★ღღ。 刻蚀新品高深宽比CCP与金属刻蚀ICP★★ღღ，有望充分受益于制程演进★★ღღ：（1）公司新一代高深宽比CCP刻蚀机Primo UD-RIE基于成熟架构升级★★ღღ，配备六个反应腔★★ღღ，通过更高功率更低频率射频偏压电源★★ღღ，提供更高离子轰击能量★★ღღ，可以满足极高深宽比刻蚀的严苛要求★★ღღ，兼顾刻蚀精度与生产效率★★ღღ。目前我国NAND已实现200层+量产★★ღღ，并向300层发展★★ღღ；其通道孔深度超过5微米★★ღღ、深宽比大于60:1★★ღღ，显著推升对极高深宽比通孔刻蚀的需求★★ღღ。（2）高选择比ICP刻蚀Primo Menova设备擅长金属Al线在厂里跟很多人睡过在厂里跟很多人睡过★★ღღ、Al块刻蚀★★ღღ，广泛适用于先进逻辑和存储芯片制造★★ღღ，在刻蚀均一性★★ღღ、选择比与低底层损伤等方面表现突出★★ღღ，并集成高效腔体清洁及高温水蒸气除胶腔室设计★★ღღ，提升效率与稳定性★★ღღ；25年6月首台机已付运客户验证★★ღღ，进展顺利★★ღღ。先进逻辑与存储芯片的金属互连层数不断增加（28nm工艺约8–10层★★ღღ，7nm/5nm节点达13–14层）★★ღღ，对金属刻蚀的精度和均一性提出更严苛要求★★ღღ，公司ICP设备有望充分受益★★ღღ。 新品ALD覆盖多种先进制程金属★★ღღ，双腔EPI满足客户降本增效需求★★ღღ：（1）Preforma Uniflash系列ALD★★ღღ：覆盖TiN★★ღღ、TiAl★★ღღ、TaN三大材料★★ღღ，独创双反应台与多级混气设计★★ღღ，薄膜均一性和效率达到国际先进水平★★ღღ。金属栅作为先进逻辑器件的关键环节★★ღღ，对栅极薄膜的厚度控制★★ღღ、台阶覆盖率及颗粒污染提出极高要求★★ღღ，推动晶圆厂对高精度ALD设备需求加速释放★★ღღ。（2）PRIMIO EpitaRP双腔减压外延★★ღღ：具备全球最小反应腔体积与多腔灵活扩展（至多可配置6腔）★★ღღ，降低OPEX与化学品消耗的同时★★ღღ，实现高生产效率★★ღღ，可满足先进逻辑★★ღღ、存储等多领域外延工艺需求★★ღღ。24年8月★★ღღ，该设备已付运到客户进行成熟制程和先进制程验证★★ღღ。 平台化布局加速落地★★ღღ：公司平台化布局覆盖刻蚀★★ღღ、薄膜★★ღღ、量检测及显示设备★★ღღ。截至2025年上半年末★★ღღ，已有6,800台等离子体刻蚀与化学薄膜反应腔在国内外155条产线实现量产★★ღღ，并形成规模化批量订单★★ღღ。同时★★ღღ，公司设立超微公司切入电子束检测领域★★ღღ，引入领军人才★★ღღ，加速检测设备布局★★ღღ。此次发布多款先进薄膜与刻蚀设备★★ღღ，平台化布局再次加速★★ღღ。 盈利预测与投资评级★★ღღ：我们维持公司2025-2027年归母净利润为24.3/34.0/44.5亿元★★ღღ，当前股价对应动态PE分别为51/37/28倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示★★ღღ：晶圆厂扩产节奏不及预期★★ღღ，新品研发&产业化不及预期等★★ღღ。

　　中微公司(688012) 事件★★ღღ：近日公司发布2025年半年度报告★★ღღ，2025年上半年公司实现营收49.61亿元★★ღღ，同比+43.88%★★ღღ；归母净利润7.06亿元★★ღღ，同比+36.62%★★ღღ；扣非归母净利润5.39亿元★★ღღ，同比+11.49%★★ღღ。2025年第二季度单季度实现营收27.87亿元★★ღღ，同比+51.26%★★ღღ，环比+28.25%★★ღღ；归母净利润3.93亿元★★ღღ，同比+46.82%★★ღღ，环比+25.47%★★ღღ；扣非归母净利润2.40亿元★★ღღ，同比+9.16%★★ღღ，环比-19.39%★★ღღ。 投资要点★★ღღ： 业绩持续高速成长★★ღღ，不断加大研发投入力度★★ღღ。2025年上半年★★ღღ，公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升★★ღღ，在先进逻辑器件和先进存储器件中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产★★ღღ，推动公司营收持续高速增长★★ღღ；25H1刻蚀设备销售约37.81亿元★★ღღ，同比增长约40.12%,LPCVD设备销售约1.99亿元★★ღღ，同比增长约608.19%★★ღღ。公司25Q2毛利率为38.54%★★ღღ，同比增长0.37%★★ღღ，环比下降3.00%★★ღღ；25Q2净利率为13.56%★★ღღ，同比下降0.95%★★ღღ，环比下降0.62%★★ღღ。公司不断加大研发投入力度★★ღღ，25H1研发投入约14.92亿元★★ღღ，同比增长53.70%★★ღღ，研发投入占公司营业收入比例约为30.07%★★ღღ。 CCP与ICP刻蚀设备不断扩大工艺覆盖度★★ღღ，装机量持续高速增长★★ღღ。公司的刻蚀产品已经对28纳米以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28纳米及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖★★ღღ。2025年上半年★★ღღ，公司CCP刻蚀设备中双反应台机型PrimoD-RIE★★ღღ、Primo AD-RIE★★ღღ、Primo AD-RIE-e和单反应台机型PrimoHD-RIE等产品已广泛应用于国内外一线客户的生产线★★ღღ，用于高精度高选择比刻蚀工艺的单反应台产品Primo HD-RIEe和用于超高深宽比刻蚀工艺的Primo UD-RIE持续获得客户订单★★ღღ，其中PrimoHD-RIEe在2025年上半年累计装机超过120个反应台★★ღღ，PrimoUD-RIE累计装机接近200个反应台★★ღღ；截至2025年上半年★★ღღ，CCP刻蚀设备累计装机量超过4500个反应台★★ღღ，同比增长超过900个反应台★★ღღ。公司的ICP刻蚀设备在涵盖逻辑★★ღღ、DRAM在厂里跟很多人睡过★★ღღ、3D NAND★★ღღ、功率和电源管理★★ღღ、以及微电机系统等芯片和器件的50多个客户的生产线上大规模量产★★ღღ，并继续验证更多ICP刻蚀工艺★★ღღ；截至2025年上半年★★ღღ，ICP刻蚀设备累计装机量超过1200个反应台★★ღღ。 多款薄膜沉积产品获得客户重复量产订单★★ღღ，持续推进新工艺设备开发K8天生赢家一触发★★ღღ。公司已开发出六款薄膜沉积产品并推向市场★★ღღ，其中钨系列薄膜沉积产品包括CVD钨设备★★ღღ、HAR钨设备和ALD钨设备★★ღღ，可覆盖存储器件所有钨应用★★ღღ，该系列设备均已通过关键存储客户端现场验证★★ღღ，满足先进存储应用中所有金属互联应用及三维存储器件字线应用各项性能指标★★ღღ，并获得客户重复量产订单★★ღღ；公司开发出应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品包括ALD氮化钛★★ღღ、ALD钛铝和ALD氮化钽产品★★ღღ，已完成多个先进逻辑客户设备验证★★ღღ，在满足先进逻辑客户性能需求的同时★★ღღ，设备的薄膜均一性★★ღღ、污染物控制和生产效率均达到世界先进水平★★ღღ，该系列设备已付运到先进逻辑客户端进行验证★★ღღ，核准推进顺利★★ღღ。公司在现有的金属CVD和ALD设备研发基础上★★ღღ，同步推进多款CVD和ALD设备开发★★ღღ，增加薄膜设备的覆盖率和市场占有率★★ღღ。 盈利预测与投资建议★★ღღ。刻蚀设备与薄膜沉积设备市场空间广阔★★ღღ，公司具有完整的单台和双台刻蚀设备布局★★ღღ、核心技术持续突破★★ღღ、产品升级快速迭代★★ღღ、刻蚀应用覆盖丰富等优势★★ღღ，CCP与ICP刻蚀设备不断扩大工艺覆盖度★★ღღ，装机量持续高速增长★★ღღ，多款薄膜沉积产品获得客户重复量产订单★★ღღ，并持续推进新工艺设备开发★★ღღ，公司逐步建立半导体设备平台★★ღღ，我们预计公司25-27年营收为120.43/155.23/198.09亿元★★ღღ，25-27年归母净利润为22.94/30.96/41.10亿元★★ღღ，对应的EPS为3.66/4.94/6.56元★★ღღ，对应PE为60.93/45.14/34.00倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示★★ღღ：晶圆厂扩产进度不及预期风险★★ღღ，行业竞争加剧风险★★ღღ，新产品研发进展不及预期风险★★ღღ，国际贸易冲突加剧风险★★ღღ。

　　中微公司(688012) 投资摘要 公司发布2025年半年报报告★★ღღ。2025H1公司实现营收49.61亿元★★ღღ，同比+43.88%★★ღღ；归母净利润7.06亿元★★ღღ，同比+36.62%★★ღღ；扣非后归母净利润5.39亿元★★ღღ，同比+11.49%★★ღღ。2025Q2单季度来看★★ღღ，公司实现营收27.87亿元★★ღღ，同比+51.26%★★ღღ，环比+28.25%★★ღღ；归母净利润3.93亿元★★ღღ，同比+46.82%★★ღღ，环比+25.47%★★ღღ；扣非后归母净利润2.40亿元★★ღღ，同比+9.16%★★ღღ，环比-19.39%★★ღღ。 高端刻蚀设备和LPCVD快速放量★★ღღ，25H1营收实现高增★★ღღ。2025H1★★ღღ，公司营收同比高增43.88%★★ღღ，单Q2收入同比+51.26%★★ღღ，收入增长提速★★ღღ，主因应用于先进逻辑和先进存储制造的高端刻蚀设备出货量显著提升以及LPCVD实现快速放量★★ღღ。分产品看★★ღღ，1）刻蚀设备★★ღღ：2025H1刻蚀设备销售收入约37.81亿元★★ღღ，同比增长约40.12%★★ღღ，主因公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升★★ღღ，多种关键刻蚀工艺实现大规模量产★★ღღ；2）LPCVD设备★★ღღ：2024年实现首台销售★★ღღ，2025H1该设备销售收入约为1.99亿元★★ღღ，超过24全年规模★★ღღ，同比增长约608.19%★★ღღ，目前多款设备顺利进入市场并获得重复性订单★★ღღ，我们认为薄膜设备产品研发和市场导入成效显现★★ღღ。 高研发投入支持产品开发和迭代★★ღღ，短期影响利润端表现★★ღღ。1）利润端★★ღღ：2025H1公司综合毛利率为39.86%★★ღღ，同比-1.47个百分点★★ღღ，毛利率略降★★ღღ；归母净利率为14.23%★★ღღ，同比-0.76个百分点★★ღღ；扣非后净利率为10.86%%★★ღღ，同比-3.16个百分点★★ღღ，主因研发投入持续加码（2025H1研发费用同比+96.65%）以及公司公允价值变动收益和投资收益增厚利润（2025H1公允价值变动收益和投资收益合计约为1.68亿元★★ღღ，较2024H1亏损的0.08亿元增加约1.76亿元）★★ღღ。2）费用端★★ღღ：2025H1公司的期间费用率为29.75%★★ღღ，同比+3.30个百分点★★ღღ，其中销售/管理/研发/财务费用率分别为3.85%/4.03%/22.50%/-0.64%★★ღღ，同比-2.00/-1.53/+6.04%/+0.79%个百分点★★ღღ。3）高研发投入期★★ღღ：公司目前仍保持高强度新设备研发★★ღღ，上半年研发投入总额达14.92亿元★★ღღ，同比+53.70%K8天生赢家一触发★★ღღ，研发投入总额占营业收入比例为30.07%★★ღღ。截止2025年上半年末★★ღღ，公司目前在研项目涵盖6类设备★★ღღ，超20款新设备的开发★★ღღ，产品研发周期缩短至2年内可完成★★ღღ，且新品在客户端验证情况良好★★ღღ，有望实现关键客户市场占有率稳步提升★★ღღ。 持续推多系列产品线研发和客户验证★★ღღ，平台化布局持续推进★★ღღ。公司坚持自主创新★★ღღ，产品布局及技术研发面向世界科技前沿★★ღღ，多个产品线）刻蚀设备★★ღღ：公司CCP和ICP刻蚀设备装机量保持高增★★ღღ，CCP刻蚀设备已对逻辑芯片制造领域中28纳米以上的绝大部分刻蚀应用和28纳米及以下的大部分刻蚀应用形成较为全面的覆盖★★ღღ，超高深宽比刻蚀机（深宽比60:1）已大规模应用于先进的存储器件生产线★★ღღ，TSV刻蚀设备也已应用于先进封装★★ღღ，此外在研用于5-3nm的逻辑芯片制造的ICP刻蚀机★★ღღ。2）薄膜类设备★★ღღ：已开发出6款薄膜沉积产品推向市场★★ღღ，钨系列产品已通过关键存储客户端现场验证★★ღღ，满足先进存储应用中所有金属互联应用（包含高深宽比金属互联应用）及三维存储器件字线应用各项性能指标★★ღღ，同时也付运到先进逻辑客户进行验证★★ღღ；此外★★ღღ，ALD设备已完成多个先进逻辑客户设备验证★★ღღ。3）量检测设备★★ღღ：包括光学量检测设备和电子束量检测设备★★ღღ，2024年新设超微公司★★ღღ，着力开发电子束检测设备★★ღღ，扩大多品类覆盖★★ღღ。4）MOCVD设备★★ღღ：用于碳化硅功率器件外延生产的设备开发取得较大的技术进展★★ღღ，持续推进样机在客户端的生产验证★★ღღ；制造Micro-LED应用的新型MOCVD设备实现小批量生产验证★★ღღ。 投资建议 我们预计公司2025-2027年实现营业收入120.12/155.44/199.74亿元★★ღღ，同比+32.51%/+29.41%/+28.50%★★ღღ；实现归母净利润21.31/30.60/39.95亿元★★ღღ，同比+31.91%/+43.60%/+30.53%★★ღღ，当前股价对应PE66/46/35倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示 下游客户扩产不及预期的风险★★ღღ、国际贸易摩擦加剧风险★★ღღ、新品开发和技术升级不及预期★★ღღ。

　　中微公司(688012) 收入保持高增★★ღღ，研发加码补齐国产高端设备短板★★ღღ，维持“买入”评级 2025H1公司实现营收49.61亿元★★ღღ，yoy+43.88%★★ღღ，主因公司高端刻蚀设备新增付运量显著提升★★ღღ，在先进逻辑和先进存储中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产★★ღღ；实现毛利率39.86%★★ღღ，同比下滑1.46pcts★★ღღ，我们认为主因公司部分先进机台在量产爬坡过程中产生的部分一次性成本在本季度体现★★ღღ；实现归母净利润7.06亿元★★ღღ，yoy+36.62%★★ღღ，主因收入高速增长★★ღღ。此外★★ღღ，公司继续保持高额研发投入★★ღღ，2025H1投入总额14.92亿元★★ღღ，yoy+53.70%★★ღღ，占收入比例为30.07%★★ღღ，远高于科创板公司平均水平（10-15%）★★ღღ。 公司Q2单季度实现收入27.87亿元★★ღღ，yoy+51.26%★★ღღ，qoq+28.25%★★ღღ；实现归母净利润3.93亿元★★ღღ，yoy+46.82%★★ღღ，qoq+25.47%★★ღღ；实现毛利率38.54%★★ღღ，同比提升0.37pcts★★ღღ，环比下滑3.00pcts★★ღღ。 公司在刻蚀领域领先K8天生赢家一触发★★ღღ，大力推进薄膜沉积设备研发★★ღღ，且通过内生外延方式拓展光学与电子束量检测等设备★★ღღ，竞争力强劲★★ღღ。我们维持收入预测★★ღღ，小幅下修公司财务费用预测在厂里跟很多人睡过★★ღღ，并小幅上修公司净利润预测★★ღღ，预计公司2025-2027年分别实现营业收入122/160/200亿元★★ღღ，实现归母净利润22.1/32.1/44.9亿元（前值22.1/31.9/44.7亿元）★★ღღ，当前股价对应PE分别为60.6/41.8/29.9倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 新品研发进展顺利★★ღღ，高端化+平台化布局稳步推进 公司各条线）刻蚀设备★★ღღ：CCP方面★★ღღ，公司针对超高深宽比刻蚀工艺（深宽比60:1）自主开发的Primo UD-RIE已大规模应用于先进的存储器件生产线英寸深硅刻蚀设备Primo TSV200E★★ღღ、Primo TSV300E在晶圆级先进封装★★ღღ、2.5D封装和微机电系统芯片生产线等成熟市场继续获得重复订单同时★★ღღ，在12英寸3D芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证★★ღღ。（2）薄膜沉积设备★★ღღ：MOCVD方面★★ღღ，公司红黄光LED MOCVD设备开发进展顺利★★ღღ，同时碳化硅功率器件外延生产设备已实现优良的工艺结果★★ღღ。ALD方面★★ღღ，公司已有六种CVD-ALD薄膜沉积设备进入市场★★ღღ，核准顺利推进★★ღღ，部分设备已取得批量订单★★ღღ。此外★★ღღ，公司减压EPI设备已在成熟制程客户进行量产验证★★ღღ，并进入先进制程验证★★ღღ。且新一代高选择比预清洁腔体已顺利付运先进制程客户端进行验证★★ღღ。 我们认为★★ღღ：随公司设备高端化与平台化战略逐步起效★★ღღ，公司市场空间与盈利能力同步提升★★ღღ，有望在未来为业绩增长做出贡献★★ღღ。 风险提示★★ღღ：下游晶圆厂扩产幅度不及预期★★ღღ，新品研发及导入进度不及预期★★ღღ。

　　中微公司(688012) 投资要点 营收&扣非归母净利润稳健增长★★ღღ，薄膜产品加速放量★★ღღ：2025H1公司营收49.6亿元★★ღღ，同比+43.9%★★ღღ，其中刻蚀设备收入为37.8亿元★★ღღ，同比+40.1%★★ღღ；LPCVD&ALD设备营收2.0亿元★★ღღ，同比高增608.2%★★ღღ。营收显著增长主要得益于公司高端刻蚀设备付运量显著提升★★ღღ，LPCVD★★ღღ、ALD等新产品形成重复订单★★ღღ。2025H1归母净利润为7.1亿元★★ღღ，同比+36.6%★★ღღ，扣除非经常性损益后的净利润为5.4亿元★★ღღ，同比+11.5%★★ღღ，主要得益于营收增长带来的毛利增加★★ღღ。Q2单季营收27.9亿元★★ღღ，同环比+51.3%/+28.3%★★ღღ；Q2归母净利润为3.9亿元★★ღღ，同环比+46.8%/+25.5%★★ღღ，扣非净利润为2.4亿元★★ღღ，同环比+9.2%/-19.4%★★ღღ。 公司毛利率略降★★ღღ，研发投入大幅提升★★ღღ：2025H1毛利率为39.9%★★ღღ，同比-1.5pct★★ღღ；销售净利率为13.8%★★ღღ，同比-1.1pct★★ღღ；扣非净利率为10.9%★★ღღ，同比-3.1pct★★ღღ。期间费用率为29.7%★★ღღ，同比+3.3pct★★ღღ，其中销售费用率为3.9%★★ღღ，同比-2.0pct★★ღღ，管理费用率为4.0%★★ღღ，同比-1.5pct★★ღღ，研发费用率为22.5%★★ღღ，同比+6.0pct★★ღღ，财务费用率为-0.6%★★ღღ，同比+0.8pct★★ღღ。目前公司在研项目涵盖六类设备和20多个新设备★★ღღ，2025H1研发投入为14.9亿元★★ღღ，同比+53.7%★★ღღ。Q2单季毛利率为38.5%★★ღღ，同环比+0.4pct/-3.0pct★★ღღ，主要系新设备确认收入影响★★ღღ；销售净利率为13.6%★★ღღ，同环比-1.0pct/-0.6pct★★ღღ；扣非净利率为8.6%★★ღღ，同环比-3.3pct/-5.1pct★★ღღ。 存货&合同负债持续高增★★ღღ，在手订单充足★★ღღ：截至2025Q2末公司合同负债为31.7亿元K8天生赢家一触发★★ღღ，同比+24.8%★★ღღ；存货为80.8亿元★★ღღ，同比+19.2%★★ღღ，其中发出商品余额为40.3亿元★★ღღ。2025H1公司经营性现金流为2亿元★★ღღ，Q2单季为-1.7亿元★★ღღ，主要系运营规模扩大带来营运资金扩大★★ღღ。 刻蚀产品持续领先★★ღღ，镀膜产品拓展顺利★★ღღ：（1）CCP设备★★ღღ：在逻辑领域已对28nm以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28nm及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖★★ღღ，且已有大量机台进入国际5nm及以下逻辑★★ღღ；截至2025Q2末已交付4500个反应台（其中双反应台3300个★★ღღ、单反应台1200个反应台）★★ღღ，较2024年Q2末增加超过900个反应台★★ღღ。公司先进制程高选择比&高深宽比刻蚀设备持续获得客户订单★★ღღ，2025H1分别装机超120/200个反应台★★ღღ。在存储领域★★ღღ，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60★★ღღ：1深宽比结构的能力★★ღღ，成功进入2D&3D存储芯片产线★★ღღ。同时★★ღღ，公司积极布局超低温刻蚀技术★★ღღ，积极储备≥90:1深宽比刻蚀技术★★ღღ。（2）ICP设备★★ღღ：公司ICP设备在客户端安装腔体数量近四年CAGR超100%★★ღღ，截至2025Q2末已累计安装超1200个反应台★★ღღ，覆盖超50个逻辑★★ღღ、DRAM★★ღღ、3D NAND等客户★★ღღ；公司的TSV刻蚀设备也已应用于先进封装★★ღღ。此外★★ღღ，公司正在研发用于5-3nm逻辑芯片的ICP刻蚀机★★ღღ。（3）MOCVD设备★★ღღ：积极布局第三代半导体设备★★ღღ，现已在LED等GaN基设备市场占据领先地位★★ღღ，并在Micro-LED领域的MOCVD设备开发上取得良好进展★★ღღ。用于SiC器件的外延设备已付运样机至国内领先客户开展验证测试★★ღღ。（4）薄膜沉积设备★★ღღ：①公司推出三款W薄膜沉积产品★★ღღ，涵盖CVD★★ღღ、HAR及ALD★★ღღ，其首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估★★ღღ，已通过客户现场验证★★ღღ，并获得客户重复量产订单★★ღღ。②公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛★★ღღ、钛铝★★ღღ、氮化钽设备也已完成多个逻辑/存储客户验证★★ღღ；③减压EPI已顺利批量交付成熟制程客户★★ღღ，先进制程工艺处于验证阶段★★ღღ。同时★★ღღ，公司完成常压EPI的开发★★ღღ，进入工艺验证阶段★★ღღ。（5）量检测设备★★ღღ：成立子公司超微公司引入电子束检测设备领军人才★★ღღ，已规划覆盖多种量检测设备★★ღღ。 盈利预测与投资评级★★ღღ：我们维持公司2025-2027年归母净利润为24.3/34.0/44.5亿元★★ღღ，当前股价对应动态PE分别为58/42/32倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示★★ღღ：晶圆厂扩产节奏不及预期★★ღღ，新品研发&产业化不及预期等★★ღღ。

　　中微公司(688012) 2025年8月28日公司披露25年半年报★★ღღ，1H25公司实现营收49.61亿元★★ღღ，同比+43.88%★★ღღ；实现归母净利润7.06亿元★★ღღ，同比+36.62%★★ღღ。2Q25公司实现单季度收入27.87亿元★★ღღ，同比+51.26%★★ღღ，环比+28.25%★★ღღ；实现归母净利润3.93亿元★★ღღ，同比+46.82%★★ღღ，环比+25.47%★★ღღ。 经营分析 持续深化与海内外客户的业务合作★★ღღ，持续加大研发投入力度★★ღღ。2025年上半年公司研发投入总额14.92亿元★★ღღ，同比+53.70%★★ღღ，研发支出占营业收入比重达30.07%★★ღღ。公司目前在研项目涵盖六类设备★★ღღ，包含多个关键制程工艺的核心设备开发★★ღღ。公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线★★ღღ。公司的MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产★★ღღ，公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商★★ღღ。公司近两年新开发的LPCVD薄膜设备和ALD薄膜设备★★ღღ，目前已有多款产品进入市场并获得大批量重复性订单★★ღღ。针对先进制程和存储器件的高端产品逐步量产★★ღღ，平台化布局兼顾外延性发展★★ღღ。2025年上半年公司的刻蚀设备业务实现营收37.81亿元★★ღღ，同比+40.12%★★ღღ；LPCVD设备实现销售收入1.99亿元★★ღღ，同比+608.19%★★ღღ；营收持续高增★★ღღ，主要系公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升★★ღღ，在先进逻辑器件和先进存储器件中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产★★ღღ。刻蚀和薄膜设备的重要性和市场空间持续提升★★ღღ，为公司带来强劲增长动力★★ღღ。随着半导体工艺节点持续缩小★★ღღ，量检测设备需满足更高精度要求★★ღღ，公司成立子公司“超微公司”★★ღღ，布局量检测设备板块★★ღღ，平台型设备公司布局已初步形成★★ღღ。 盈利预测★★ღღ、估值与评级 预计公司25-27年营收118/152/198亿元★★ღღ，同比增长30%/29%/30%★★ღღ；归母净利润22/31/42亿元★★ღღ，同比增长36%/42%/35%★★ღღ，对应P/E为64/45/33倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示 半导体周期波动★★ღღ，下游晶圆厂扩产不及预期★★ღღ，新产品进展速度不及预期风险★★ღღ。

　　中微公司(688012) 投资要点 2025H1业绩高增★★ღღ，平台化布局显现★★ღღ：公司预计2025年上半年营收49.6亿元★★ღღ，同比+43.9%★★ღღ；其中刻蚀设备收入37.8亿元★★ღღ，同比+40.1%★★ღღ，LPCVD设备收入1.99亿元★★ღღ，同比高增608.2%★★ღღ。营收显著增长主要得益于公司用于先进存储&逻辑的高端刻蚀设备付运量显著提升★★ღღ，LPCVD★★ღღ、ALD等新产品形成重复订单★★ღღ。2025H1归母净利润预计为6.8-7.3亿元★★ღღ，同比+31.6至41.3%★★ღღ；扣除非经常性损益后的净利润为5.1-5.6亿元★★ღღ，同比+5.5至15.9%★★ღღ，主要得益于营收增长带来的毛利增加★★ღღ。2025年Q2单季预计营收27.9亿元★★ღღ，同比+51.3%★★ღღ，环比+28.6%★★ღღ；Q2单季归母净利润预计为3.7-4.2亿元★★ღღ，同比+37.0至55.6%★★ღღ，环比+19.4至35.5%★★ღღ。 公司持续加大研发投入★★ღღ，在手订单充足★★ღღ：目前公司在研项目涵盖六类设备和20多个新设备★★ღღ，2025年上半年研发投入14.9亿元★★ღღ，同比+53.7%★★ღღ；占公司营收比例为30.1%★★ღღ。截至2025Q1末公司合同负债为30.7亿元★★ღღ，同比+162.4%★★ღღ；存货为74.5亿元★★ღღ，同比+33.4%★★ღღ；2025Q1公司经营性现金流为3.8亿元★★ღღ。 刻蚀产品持续领先★★ღღ，镀膜产品拓展顺利★★ღღ：（1）CCP设备★★ღღ：在逻辑领域已对28nm以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28nm及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖★★ღღ，且已有大量机台进入国际5nm及以下逻辑★★ღღ；截至2024Q4已交付4000个反应台★★ღღ。在存储领域★★ღღ，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60★★ღღ：1深宽比结构的能力★★ღღ，成功进入2D&3D存储芯片产线★★ღღ。同时★★ღღ，公司积极布局超低温刻蚀技术★★ღღ，积极储备≥90:1深宽比刻蚀技术★★ღღ。（2）ICP设备★★ღღ：公司ICP设备在客户端安装腔体数量近四年CAGR超100%★★ღღ，截至2024年已累计安装超1025个反应台★★ღღ，覆盖超50个逻辑★★ღღ、DRAM★★ღღ、3D NAND等客户★★ღღ；公司的TSV刻蚀设备也已应用于先进封装★★ღღ。此外★★ღღ，公司正在研发用于5-3nm逻辑芯片的ICP刻蚀机★★ღღ。（3）MOCVD设备★★ღღ：积极布局第三代半导体设备★★ღღ，现已在LED等GaN基设备市场占据领先地位★★ღღ，并在Micro-LED领域的MOCVD设备开发上取得良好进展★★ღღ。用于SiC器件的外延设备已付运样机至国内领先客户开展验证测试★★ღღ。（4）薄膜沉积设备★★ღღ：公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估★★ღღ，已通过客户现场验证★★ღღ，并获得客户重复量产订单★★ღღ，公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛★★ღღ、钛铝★★ღღ、氮化钽设备也已完成多个逻辑/存储客户验证★★ღღ；EPI设备也已完成多家先进逻辑器件与MTM器件客户的工艺验证★★ღღ，并获得了客户的高度认可★★ღღ。（5）量检测设备★★ღღ：成立子公司超微公司引入电子束检测设备领军人才★★ღღ，已规划覆盖多种量检测设备★★ღღ。 盈利预测与投资评级★★ღღ：我们维持公司2025-2027年归母净利润为24.3/34.0/44.5亿元★★ღღ，当前股价对应动态PE分别为47/34/26倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示★★ღღ：晶圆厂扩产节奏不及预期★★ღღ，新品研发&产业化不及预期等★★ღღ。

　　中微公司(688012) 结论与建议★★ღღ： 伴随中美贸易摩擦升级★★ღღ，先进制程的产能问题已经成为制约中国AI产业发展的最核心问题★★ღღ，因此我们预计2H25开始★★ღღ，中国政府会有更多资金★★ღღ、政策向包括光刻机★★ღღ、EDA工具在内的先进制程倾斜★★ღღ，中国半导体产业有望迎来先进工艺扩张的结构性契机★★ღღ。 公司作为国内半导体刻蚀设备领域的龙头★★ღღ，强化刻蚀设备市占率的同时亦不断拓展新的设备产品★★ღღ，高端半导体设备领域的竞争力进一步提升★★ღღ。目前公司股价对应2025-27年PE分别为50倍★★ღღ、41倍和33倍★★ღღ，考虑到中美科技纷争加剧★★ღღ，公司估值有提升空间★★ღღ，给与买进的评级★★ღღ。 2H25先进制程将是产业重点★★ღღ：美国持续施压中国半导体产业★★ღღ，多次对于中国晶圆制造★★ღღ、设计关键设备及工具造成断供的威胁★★ღღ。因此★★ღღ，中国在高阶GPU产品★★ღღ、存储产品的需求缺口急需用先进制程来填补★★ღღ。可以预见从2H25开始★★ღღ，中国政府会有更多资金★★ღღ、政策向包括光刻机★★ღღ、EDA工具在内的先进制程倾斜★★ღღ，中国半导体产业有望迎来新一轮先进工艺产能扩张★★ღღ。公司作为国内核心半导体设备企业★★ღღ，在刻蚀★★ღღ、薄膜领域有相当的技术储备★★ღღ，有望在中国发展先进制程的过程中受益★★ღღ。 1Q25营收继续高速增长★★ღღ，在手订单丰富★★ღღ：1Q25公司实现营收21.7亿元★★ღღ，YOY增长35.4%;实现净利润3.1亿元★★ღღ，YOY增长25.7%,EPS0.5元★★ღღ。1Q25公司综合毛利率41.5%★★ღღ，较上年同期下降3.4个百分点★★ღღ。截止1Q25★★ღღ，公司合同负债30.7亿元★★ღღ，较上年末增加19%★★ღღ，显示1Q25公司订单增长良好★★ღღ，同时在手订单丰富★★ღღ。公司1Q25研发投入约6.9亿元★★ღღ，YOY增长91%★★ღღ，研发力度持续加强★★ღღ。 盈利预测★★ღღ：我们预计公司预计公司2025-27年实现净利润22亿元★★ღღ、26.8亿元和33.8亿元★★ღღ，YOY分别增长36%★★ღღ、21%和19%★★ღღ，EPS分别为3.55元★★ღღ、4.32元和5.44元★★ღღ，目前股价对应2025-27年PE分别为50倍★★ღღ、41倍和33倍★★ღღ，考虑到中美科技争端激烈★★ღღ，半导体设备本土化需求迫切★★ღღ，给予买进的评级★★ღღ。 风险提示★★ღღ：半导体设备需求下降★★ღღ。

　　中微公司(688012) 主要观点★★ღღ： 事件 公司2025年第一季度实现营业收入22亿元★★ღღ，同比增加35%★★ღღ，环比减少39%★★ღღ；归母净利润3亿元★★ღღ，同比增加26%★★ღღ，环比减少55%★★ღღ；扣非净利3亿元★★ღღ，同比增加13%★★ღღ，环比减少48%★★ღღ。 公司在2024年实现营业收入91亿元★★ღღ，同比增加45%★★ღღ；归母净利润16亿元★★ღღ，同比减少10%★★ღღ；扣非净利14亿元★★ღღ，同比增加17%★★ღღ。 刻蚀设备增长迅速★★ღღ，LPCVD实现收入突破 2024年★★ღღ，公司刻蚀设备收入73亿元★★ღღ，同比增长55%★★ღღ；MOCVD设备收入4亿元★★ღღ，同比下降18%★★ღღ；LPCVD设备收入2亿元★★ღღ，实现首台销售★★ღღ。公司开发的12寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户最先进的生产线nm及以下器件中若干关键步骤的加工★★ღღ。在3D NAND芯片制造环节★★ღღ，公司的等离子体刻蚀设备已应用于128层及以上的量产★★ღღ。 多年研发投入助力产品升级★★ღღ，一季度合同负债大幅增长 2024年★★ღღ，公司研发投入25亿元★★ღღ，同比增长94%★★ღღ，研发费率16%★★ღღ，多年来保持在15%上下的水平★★ღღ。公司正在推进超过二十款新设备的开发★★ღღ，同时★★ღღ，新品研发速度明显加快★★ღღ，新设备开发时间从过去的3-5年★★ღღ，缩短至2年或更短★★ღღ。高研发投入取得成效★★ღღ，产品突破不断带来新订单增长★★ღღ。一季度★★ღღ，公司合同负债31亿元★★ღღ，同比大增162%★★ღღ，验证在手订单充沛★★ღღ。 投资建议 我们预计2025-2027年公司归母净利润分别为24.76★★ღღ、34.13★★ღღ、42.94亿元★★ღღ，对应的EPS分别为3.96★★ღღ、5.46★★ღღ、6.87元★★ღღ，对应最新收盘价PE分别为45x★★ღღ、33x★★ღღ、26x★★ღღ。维持公司“买入”评级★★ღღ。 风险提示 研发进度不及预期★★ღღ、产业竞争加剧★★ღღ、贸易摩擦加剧★★ღღ。

　　中微公司(688012) 核心观点 1Q25营收同比增长35.40%★★ღღ，归母净利润同比增长25.67%★★ღღ。公司发布2025年第一季度报告★★ღღ，实现营收21.73亿元(YoY+35.40%)★★ღღ，归母净利润3.13亿元(YoY+25.67%)★★ღღ，扣非归母净利润2.98亿元(YoY+13.44%)★★ღღ。综合毛利率达到41.54%(QoQ+2.28pp)★★ღღ，研发投入6.87亿元(YoY+90.53%)★★ღღ。公司针对先进逻辑和存储制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升★★ღღ，先进逻辑中段关键刻蚀工艺和先进存储超高深宽比刻蚀工艺实现量产★★ღღ。期末公司合同负债达30.67亿元★★ღღ，存货达74.48亿元★★ღღ，显示公司在手订单饱满★★ღღ。 2024年营收同比增长44.73%★★ღღ，扣非归母净利润同比增长16.51%★★ღღ。公司2024年实现营收90.65亿元(YoY+44.73%)★★ღღ，归属于上市公司股东的净利润16.16亿元(YoY-9.53%)★★ღღ，扣非归母净利润13.88亿元(YoY+16.51%)★★ღღ，综合毛利率41.06%(YoY-4.77pp)★★ღღ。归母净利润同比下滑主要系公司显著加大研发投入以及2023年同期出售部分拓荆科技股票产生投资收益所致★★ღღ。分产品看★★ღღ，公司刻蚀设备实现收入72.77亿元(YoY+54.72%)★★ღღ；MOCVD设备实现收入3.79亿元★★ღღ；新品薄膜沉积设备实现首台销售★★ღღ，贡献营收1.56亿元★★ღღ，LPCVD设备累计出货量突破150个反应台★★ღღ，24年获得4.76亿元批量订单★★ღღ。同时★★ღღ，公司实现6种薄膜沉积设备的研发与交付★★ღღ，钨系列产品全部通过关键存储客户端量产验证★★ღღ，取得批量订单在厂里跟很多人睡过★★ღღ。 在研六大类超二十款新设备★★ღღ，提升产品覆盖面★★ღღ。伴随公司薄膜沉积设备达到国际领先水平★★ღღ，公司同步推进多款金属薄膜气相设备★★ღღ、新一代等离子体源的PECVD设备的开发★★ღღ，布局制造MEMS的深硅刻蚀设备★★ღღ，先进封装Chiplet所需的TSV刻蚀设备和PVD设备等★★ღღ。此外★★ღღ，公司先进锗硅EPI设备顺利进入客户端量产验证阶段★★ღღ，已完成多家先进逻辑器件与MTM器件（包括MEMS和传感器★★ღღ、CIS★★ღღ、功率以及射频器件的超越摩尔器件）客户的工艺验证★★ღღ。产能建设方面★★ღღ，公司南昌(14万平米)和临港(18万平米)生产研发基地已投产★★ღღ，2024年分别实现产值约61亿元和85亿元★★ღღ。 投资建议★★ღღ：国内半导体先进工艺设备公司★★ღღ，维持“优于大市”评级★★ღღ。由于国内半导体设备需求持续旺盛★★ღღ，且公司不断增加刻蚀★★ღღ、薄膜等领域覆盖度提升份额★★ღღ，未来营收规模效应有望逐步体现★★ღღ。我们预计公司2025-2027年营业收入118.96/151.32/193.33亿元（25-26年前值114.67/149.59亿元）★★ღღ，归母净利润22.32/31.38/39.86亿元（25-26年前值22.03/31.82亿元）★★ღღ，当前股价对应PE分别为53/37/28倍★★ღღ，维持“优于大市”评级★★ღღ。 风险提示★★ღღ：下游晶圆制造产能扩充不及预期风险★★ღღ，新产品开发不及预期风险★★ღღ，国际关系波动和地缘政治风险等★★ღღ。

　　中微公司(688012) 事件★★ღღ：近日公司发布2024年度报告及2025年一季度报告★★ღღ，2024年公司实现营收90.65亿元★★ღღ，同比+44.73%★★ღღ；归母净利润16.16亿元★★ღღ，同比-9.53%★★ღღ；扣非归母净利润13.88亿元★★ღღ，同比+16.51%★★ღღ；2025年第一季度公司实现营收21.73亿元★★ღღ，同比+35.40%★★ღღ，环比-38.92%★★ღღ；归母净利润3.13亿元★★ღღ，同比+25.67%★★ღღ，环比-55.45%★★ღღ；扣非归母净利润2.98亿元★★ღღ，同比+13.44%★★ღღ，环比-48.09%★★ღღ。 投资要点★★ღღ： 营收持续高速成长★★ღღ，合同负债与存货大幅增长★★ღღ。公司的等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可★★ღღ，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升★★ღღ，公司的薄膜设备已经顺利进入市场★★ღღ，并开始贡献收入★★ღღ，推动公司整体营收持续高速成长★★ღღ。公司2024年实现毛利率为41.06%★★ღღ，同比下降4.77%★★ღღ，25Q1毛利率为41.54%★★ღღ，同比下降3.40%★★ღღ，环比提升2.28%★★ღღ；公司2024年实现净利率为17.81%★★ღღ，同比下降10.67%★★ღღ，25Q1净利率为14.18%★★ღღ，同比下降1.32%★★ღღ，环比下降5.55%★★ღღ。由于市场对公司开发多种新设备的需求急剧增长★★ღღ，公司持续加大研发力度★★ღღ，2024年研发投入约24.52亿元★★ღღ，同比增长约94.31%★★ღღ，研发投入占营业收入比例约为27.05%★★ღღ；25Q1公司研发投入约6.87亿元★★ღღ，同比增长约90.53%★★ღღ。25Q1末公司合同负债为30.67亿元★★ღღ，较24Q1末大幅增长162.36%★★ღღ，较24年底增长18.60%★★ღღ；25Q1末公司存货为74.48亿元★★ღღ，较24Q1末增长33.38%★★ღღ，较24年底增长5.81%★★ღღ；公司合同负债与存货大幅增长★★ღღ，为后续营收持续高速成长奠定坚实基础★★ღღ。 CCP与ICP刻蚀设备优势突出★★ღღ，销量持续高速增长★★ღღ。公司的CCP与ICP等离子体刻蚀设备可以覆盖国内95%以上的刻蚀应用需求★★ღღ，受益于公司完整的单台和双台刻蚀设备布局★★ღღ、核心技术持续突破★★ღღ、产品升级快速迭代★★ღღ、刻蚀应用覆盖丰富等优势★★ღღ，2024年公司CCP与ICP刻蚀设备的销售增长和在国内主要客户芯片生产线上市占率均大幅提升★★ღღ。公司CCP刻蚀设备中双反应台Primo D-RIE★★ღღ、PrimoAD-RIE★★ღღ、Primo AD-RIEe★★ღღ，单反应台PrimoHD-RIE等产品已广泛应用于国内外一线%★★ღღ；具有动态可调电极间距功能的双反应台Primo SD-RIE进入先进逻辑生产线验证关键工艺★★ღღ；用于高精度高选择比刻蚀工艺的单 反应台产品Primo HD-RIEe★★ღღ，和用于超高深宽比刻蚀工艺的PrimoUD-RIE实现规模付运★★ღღ；2024年公司CCP刻蚀设备生产付运超过1200反应台★★ღღ，创历史新高★★ღღ。公司的ICP刻蚀设备在涵盖逻辑★★ღღ、DRAM★★ღღ、3D NAND★★ღღ、功率和电源管理★★ღღ、以及微电机系统等芯片和器件的50多个客户的生产线上量产★★ღღ，并继续验证更多ICP刻蚀工艺★★ღღ；2024年★★ღღ，公司ICP刻蚀设备在客户端的累计安装数达到1025个反应台★★ღღ，近四年年均增长大于100%★★ღღ。2024年★★ღღ，公司推出了适用于更高深宽比结构刻蚀的Nanova LUX-WT和Nanova LUX-Cryo两种ICP设备★★ღღ，这些配备新功能的Nanova系列产品提升了ICP刻蚀设备的刻蚀能力★★ღღ，有效地扩大了公司ICP设备在芯片制造中的量产刻蚀工艺覆盖率★★ღღ，获得重要客户的批量重复订单★★ღღ，实现了高速成长★★ღღ。 多款薄膜沉积设备顺利进入市场★★ღღ，并获得重复性订单★★ღღ。近两年公司新开发的LPCVD和ALD薄膜设备★★ღღ，已有多款新型设备顺利进入市场并获得重要客户的重复性订单★★ღღ。公司完全自主设计开发的双台机钨系列设备★★ღღ，生产效率达到业界领先水平★★ღღ。公司开发的金属钨系列在生产稳定性上也表现出了突出性能★★ღღ，其中原子层沉积金属钨产品晶圆间薄膜均一性达到了小于1%的水平★★ღღ。公司新推出自主开发的金属栅系列产品★★ღღ，继承中微独特的双反应台设计★★ღღ，通过中微专利的多级匀气混气设计★★ღღ，基于模型算法的加热系统设计和可实现高效原子层沉积反应的反应腔流导设计等★★ღღ，具备高输出效率的同时★★ღღ，产品性能达到国际先进水平★★ღღ，可满足先进逻辑关键金属栅应用需求★★ღღ。公司LPCVD设备出货量已突破150多个反应台★★ღღ，2024年得到约4.76亿元批量订单★★ღღ，其他二十多种导体薄膜沉积设备也将陆续进入市场★★ღღ，能够覆盖全部类别的先进金属应用★★ღღ。 盈利预测与投资建议★★ღღ。刻蚀设备与薄膜沉积设备市场空间广阔★★ღღ，公司具有完整的单台和双台刻蚀设备布局★★ღღ、核心技术持续突破★★ღღ、产品升级快速迭代★★ღღ、刻蚀应用覆盖丰富等优势★★ღღ，CCP与ICP刻蚀设备销量持续高速增长★★ღღ，公司多款薄膜沉积设备顺利进入市场★★ღღ，并获得重复性订单★★ღღ，我们预计公司25-27年营收为120.43/155.23/198.09亿元★★ღღ，25-27年归母净利润为22.94/30.96/41.10亿元★★ღღ，对应的EPS为3.69/4.97/6.60元★★ღღ，对应PE为50.87/37.68/28.39倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示★★ღღ：晶圆厂扩产进度不及预期风险★★ღღ，行业竞争加剧风险★★ღღ，新产品研发进展不及预期风险★★ღღ，国际贸易冲突加剧风险★★ღღ。

　　中微公司(688012) 2025年4月24日公司披露25年一季报★★ღღ，1Q25实现营收21.73亿元★★ღღ，在过去14年保持营业收入年均增长大于35%的基础上继续同比增长35.40%★★ღღ；实现归母净利润3.13亿元★★ღღ，同比增长25.67%★★ღღ。公司收入端实现较大幅度增长的主要原因是针对先进逻辑和存储器件制造中高端产品新增付运量显著提升★★ღღ，先进逻辑器件中关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产★★ღღ。 经营分析 公司研发力度持续加大★★ღღ，新品开发速度加快★★ღღ。目前公司在研项目涵盖六大类★★ღღ，超过二十款新设备的开发★★ღღ。目前★★ღღ，在高额研发投入支持下★★ღღ，公司相较之前三到五年产品速度★★ღღ，目前只需两年或更短时间就能开发出有竞争力的新设备★★ღღ，并顺利进入市场★★ღღ。1Q25公司继续维持高额研发投入★★ღღ，研发费用达6.87亿元★★ღღ，同比增长90.53%★★ღღ，研发投入占公司营业收入比例约为31.60%★★ღღ，显著高于同业公司★★ღღ。刻蚀设备24年收入高增★★ღღ，薄膜沉积设备/EPI/量检测等新产品进展良好★★ღღ。根据公司24年年报数据显示★★ღღ，24年公司刻蚀设备收入为72.77亿元★★ღღ，同比+54.73%★★ღღ。公司为先进存储器件和逻辑器件开发的六种LPCVD薄膜设备已经顺利进入市场★★ღღ，2024年收到约4.76亿元批量订单在厂里跟很多人睡过★★ღღ，实现销售收入已达到1.56亿元★★ღღ。新开发的EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段★★ღღ，满足客户先进制程中锗硅外延生长工艺的量产需求★★ღღ。此外公司成立子公司“超微公司”★★ღღ，布局量检测设备板块★★ღღ，已规划覆盖多种量检测设备产品★★ღღ，平台型设备公司布局已初步形成★★ღღ。 盈利预测★★ღღ、估值与评级 预计公司25-27年营收118/152/198亿元★★ღღ，同比增长30%/29%/30%★★ღღ；归母净利润22/31/42亿元★★ღღ，同比增长36%/41%/35%★★ღღ，对应P/E为53/37/28倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示 半导体周期波动★★ღღ，下游晶圆厂扩产不及预期★★ღღ，新产品进展速度不及预期风险★★ღღ。

　　中微公司(688012) 投资要点 营收&扣非归母净利润稳健增长★★ღღ。公司2025年一季度营收21.7亿元★★ღღ，同比+35.4%★★ღღ，营收显著增长主要得益于公司高端刻蚀设备付运量显著提升★★ღღ，LPCVD★★ღღ、ALD等新产品形成重复订单★★ღღ。2025Q1归母净利润为3.1亿元★★ღღ，同比+25.7%★★ღღ；扣除非经常性损益后的净利润为3.0亿元K8天生赢家一触发★★ღღ，同比+13.4%★★ღღ，主要得益于营收增长带来的毛利增加★★ღღ。 公司毛利率环比改善★★ღღ，研发投入持续提升★★ღღ。2025Q1毛利率为41.5%★★ღღ，环比+2.2pct★★ღღ；销售净利率为14.2%★★ღღ，同环比-1.3/-5.5pct★★ღღ；扣非净利率为13.7%★★ღღ，同比-2.7pct★★ღღ。期间费用率为28.8%★★ღღ，同比+4.5pct★★ღღ，其中销售费用率为4.3%★★ღღ，同比-4.2pct★★ღღ，管理费用率为4.1%★★ღღ，同比-0.4pct★★ღღ，研发费用率为21.4%★★ღღ，同比+8.0pct★★ღღ，财务费用率为-0.9%★★ღღ，同比+1.1pct★★ღღ。目前公司在研项目涵盖六类设备和20多个新设备★★ღღ，Q1研发投入为6.9亿元★★ღღ，同比大增90.5%★★ღღ。 存货&合同负债同比高增★★ღღ，在手订单充足★★ღღ。截至2025Q1末公司合同负债为30.7亿元★★ღღ，同比+162.4%★★ღღ；存货为74.5亿元★★ღღ，同比+33.4%★★ღღ；2025Q1公司经营性现金流为3.8亿元★★ღღ。 刻蚀产品持续领先★★ღღ，镀膜产品拓展顺利★★ღღ。（1）CCP设备★★ღღ：在逻辑领域已对28nm以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28nm及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖★★ღღ，且已有大量机台进入国际5nm及以下逻辑★★ღღ；截至2024Q4已交付4000个反应台★★ღღ。在存储领域★★ღღ，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60★★ღღ：1深宽比结构的能力★★ღღ，成功进入2D&3D存储芯片产线★★ღღ。同时★★ღღ，公司积极布局超低温刻蚀技术★★ღღ，积极储备≥90:1深宽比刻蚀技术★★ღღ。（2）ICP设备★★ღღ：公司ICP设备在客户端安装腔体数量近四年CAGR超100%★★ღღ，截至2024年已累计安装超1025个反应台★★ღღ，覆盖超50个逻辑★★ღღ、DRAM★★ღღ、3D NAND等客户★★ღღ；公司的TSV刻蚀设备也已应用于先进封装★★ღღ。此外★★ღღ，公司正在研发用于5-3nm逻辑芯片的ICP刻蚀机★★ღღ。（3）MOCVD设备★★ღღ：积极布局第三代半导体设备★★ღღ，现已在LED等GaN基设备市场占据领先地位★★ღღ，并在Micro-LED领域的MOCVD设备开发上取得良好进展★★ღღ。用于SiC器件的外延设备已付运样机至国内领先客户开展验证测试★★ღღ。（4）薄膜沉积设备★★ღღ：公司首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估★★ღღ，已通过客户现场验证★★ღღ，并获得客户重复量产订单★★ღღ，公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛★★ღღ、钛铝★★ღღ、氮化钽设备也已完成多个逻辑/存储客户验证★★ღღ；EPI设备也已完成多家先进逻辑器件与MTM器件客户的工艺验证★★ღღ，并获得了客户的高度认可★★ღღ。（5）量检测设备★★ღღ：成立子公司超微公司引入电子束检测设备领军人才★★ღღ，已规划覆盖多种量检测设备★★ღღ。 盈利预测与投资评级★★ღღ：我们维持公司2025-2027年归母净利润为24.3/34.0/44.5亿元★★ღღ，当前股价对应动态PE分别为48/34/26倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示★★ღღ：晶圆厂扩产节奏不及预期★★ღღ，新品研发&产业化不及预期等★★ღღ。

　　中微公司(688012) 结论与建议★★ღღ： 4Q25公司营收增长6成★★ღღ，1Q25营收继续保持35%的增速★★ღღ，显示半导体设备国产推进持续★★ღღ。同时1Q25公司合同负债较上年末增长19%★★ღღ，未来业绩确定性较高★★ღღ。 公司作为国内半导体刻蚀设备领域的龙头★★ღღ，强化市占率的同时亦不断拓展新的设备产品★★ღღ，高端半导体设备领域的竞争力进一步提升★★ღღ。目前公司股价对应2025-27年PE分别为53倍★★ღღ、43倍和34倍★★ღღ，考虑到中美科技纷争加剧★★ღღ，公司估值有提升空间★★ღღ，给与买进的评级★★ღღ。 1Q25营收继续高速增长★★ღღ，在手订单丰富★★ღღ：1Q25公司实现营收21.7亿元★★ღღ，YOY增长35.4%;实现净利润3.1亿元★★ღღ，YOY增长25.7%,EPS0.5元★★ღღ。1Q25公司综合毛利率41.5%★★ღღ，较上年同期下降3.4个百分点★★ღღ。截止1Q25★★ღღ，公司合同负债30.7亿元★★ღღ，较上年末增加19%★★ღღ，显示1Q25公司订单增长良好★★ღღ，同时在手订单丰富★★ღღ。公司1Q25研发投入约6.9亿元★★ღღ，YOY增长91%★★ღღ，研发力度持续加强★★ღღ。 2024营收增长45%★★ღღ：2024年公司实现营收90.7亿元★★ღღ，YOY增长44.7%;实现净利润16.2亿元★★ღღ，YOY下降9.5%★★ღღ，扣非后净利润13.9亿元★★ღღ，YOY增长16.5%★★ღღ，EPS2.61元★★ღღ。其中★★ღღ，第4季度单季公司实现营收35.6亿元K8天生赢家一触发★★ღღ，YOY增长60.1%★★ღღ，实现净利润7亿元★★ღღ，YOY增长12.2%★★ღღ，扣非后净利润5.7亿元★★ღღ，通同比增长15.4%★★ღღ。 半导体设备自主需求持续升级★★ღღ：在美国多轮打压中国高科技产业的背景下★★ღღ，中国对于半导体先进制程需求更加迫切★★ღღ。以华为★★ღღ、长江存储为代表的中国企业正努力突破半导体制程限制★★ღღ，其中设备厂商的支持尤为关键★★ღღ。我们认为未来国内晶圆厂扩产将更侧重于先进制程领域的投资★★ღღ，以满足日益迫切的AI等行业需求★★ღღ。因此本土设备厂将获得更大的市场空间★★ღღ。 盈利预测★★ღღ：我们预计公司预计公司2025-27年实现净利润22亿元★★ღღ、26.8亿元和33.8亿元★★ღღ，YOY分别增长36%★★ღღ、21%和19%★★ღღ，EPS分别为3.55元★★ღღ、4.32元和5.44元★★ღღ，目前股价对应2025-27年PE分别为53倍★★ღღ、43倍和34倍★★ღღ，考虑到中美科技争端激烈★★ღღ，半导体设备本土化需求迫切★★ღღ，给予买进的评级★★ღღ。 风险提示★★ღღ：半导体设备需求下降★★ღღ。

　　中微公司(688012) 投资摘要 公司发布2024年年度报告★★ღღ：2024年公司实现营业收入90.65亿元★★ღღ，同比+44.73%★★ღღ；归母净利润16.16亿元★★ღღ，同比-9.53%★★ღღ；扣非后归母净利润13.88亿元★★ღღ，同比+16.51%★★ღღ。24Q4公司实现营业收入35.58亿元★★ღღ，同比+60.11%★★ღღ，环比+72.76%★★ღღ；归母净利润7.03亿元★★ღღ，同比+12.24%★★ღღ，环比+77.32%★★ღღ；扣非后归母净利润5.75亿元★★ღღ，同比+25.53%★★ღღ，环比+74.01%★★ღღ。 刻蚀和薄膜设备端快速放量★★ღღ，全年收入实现快速增长★★ღღ。2024年公司营收同比实现较快增长★★ღღ，同比+44.7%★★ღღ，分产品来看★★ღღ，2024年刻蚀设备收入约72.77亿元★★ღღ，同比+54.72%★★ღღ，腔体销售量为908个★★ღღ，同比增长49.83%★★ღღ，主因公司的等离子体刻蚀设备持续获得客户认可★★ღღ，高端产品新增付运量及销售额显著提升★★ღღ；MOCVD设备收入约3.79亿元★★ღღ，同比下降约18.03%★★ღღ，降幅收窄★★ღღ；LPCVD薄膜设备2024年实现首台销售★★ღღ，全年设备销售约1.56亿元★★ღღ，目前多款新型设备顺利进入市场并获得重复性订单★★ღღ，2024年设备批量订单约4.76亿元★★ღღ。 公司持续加大研发投入★★ღღ，毛利率略有下滑★★ღღ。①利润端★★ღღ：2024年公司综合毛利率41.06%★★ღღ，同比-4.76个百分点★★ღღ，毛利率略降主因质保费用计入营业成本★★ღღ；净利率为17.81%★★ღღ，同比-10.67个百分点★★ღღ；扣非后净利率为15.31%★★ღღ，同比-3.71个百分点★★ღღ，主因研发投入加码以及无处置拓荆科技股份股权收益导致非经常损益下降（2023年同期处置股份产生税后净收益约4.06亿元★★ღღ，2024年无相关收益★★ღღ，预计影响净利率约4.48个百分点）★★ღღ。②费用端★★ღღ：2024年公司的期间费用率为25.28%★★ღღ，同比+0.30个百分点★★ღღ，其中销售/管理/研发/财务费用率分别为5.28%/5.31%/15.64%/-0.96%★★ღღ，分别同比-2.57/-0.17/+2.60/+0.44个百分点★★ღღ。公司保持高强度新设备研发★★ღღ，以满足高端半导体设备国产替代需求★★ღღ，截止24年末在研项目涵盖6类设备★★ღღ，总共有超过20款新设备在开发中★★ღღ，2024年公司研发投入约24.52亿元★★ღღ，同比增长11.90亿元★★ღღ，增幅约94.31%★★ღღ。 设备新品研发进展顺利★★ღღ，平台化布局持续推进★★ღღ。公司坚持自主创新★★ღღ，产品布局及技术研发面向世界科技前沿★★ღღ，多个产品线取得不错进展★★ღღ：①刻蚀设备★★ღღ：逻辑芯片制造领域★★ღღ，成熟产品可用于65至5nm及更先进技术结点量产★★ღღ，存储芯片制造领域★★ღღ，用于超高深宽比掩膜刻蚀的ICP刻蚀机目前在生产线上验证顺利★★ღღ，此外用于超高深宽比介质刻蚀的CCP刻蚀设备进入规模量产阶段★★ღღ。②MOCVD设备★★ღღ：用于碳化硅功率器件外延生产的设备正在开发中★★ღღ，即将开展样机在客户端的验证测试★★ღღ；制造Micro-LED应用的新型MOCVD设备也正在按计划顺利开发中★★ღღ。③薄膜类设备★★ღღ：已开发出6款薄膜沉积产品推向市场★★ღღ，其中3款钨系列薄膜沉积产品备均已通过关键存储客户端现场验证★★ღღ，3款应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品已经完成多个先进逻辑客户设备端验证★★ღღ。④电子束量检测设备★★ღღ：公司于2024年新发起设立超微公司★★ღღ，着力开发电子束检测设备★★ღღ，公司将通过各种方式扩大对多门类量检测设备的市场参与和覆盖★★ღღ。 投资建议 我们预计公司2025-2027年实现营业收入121.95/152.21/191.08亿元★★ღღ，同比+34.53%/+24.81%/+25.54%★★ღღ；实现归母净利润23.59/31.30/40.12亿元★★ღღ，同比+46.01%/+32.66%/+28.19%★★ღღ，当前股价对应PE50/38/29倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 风险提示 下游客户扩产不及预期的风险★★ღღ、国际贸易摩擦加剧风险★★ღღ、新品开发和技术升级不及预期★★ღღ。

　　中微公司(688012) 收入保持高增★★ღღ，研发加码补齐国产高端设备短板★★ღღ，维持“买入”评级 公司全年实现收入90.65亿元★★ღღ，yoy+44.73%★★ღღ，其中刻蚀设备约72.77亿元★★ღღ，yoy+54.72%★★ღღ，为收入增长的主要因素★★ღღ；实现归母净利润16.16亿元★★ღღ，yoy-9.53%★★ღღ；实现毛利率41.1%★★ღღ，同比下降2.7pct★★ღღ。单季度来看★★ღღ：公司2024Q4实现35.58亿元★★ღღ，qoq+72.76%★★ღღ；实现归母净利润7.03亿元★★ღღ，qoq+77.32%★★ღღ；实现毛利率39.26pct★★ღღ，qoq-4.47pct★★ღღ；截至2024Q4末公司合同负债为25.86亿元★★ღღ，同比+235.2%★★ღღ。随着公司更高价值量设备及新布局设备类型逐步在下游通过验证★★ღღ，以及研发投入继续增长★★ღღ，我们上修公司2025/2026年收入★★ღღ，下修2025年归母净利润★★ღღ，预计公司2025-2027年收入将分别达到122/160/200亿元（2025/2026年前值110/141亿元）★★ღღ，归母净利润将分别达到22/32/45亿元（2025/2026年前值24/32亿元）★★ღღ，以2025年4月17日收盘价计算★★ღღ，2025-2027年PE分别为54/38/27倍★★ღღ，维持“买入”评级★★ღღ。 新品研发进展顺利★★ღღ，高端化+平台化布局稳步推进 公司各条线）刻蚀设备★★ღღ：逻辑芯片已经在从65至5nm及更先进节点量产★★ღღ；存储芯片方面★★ღღ，用于超高深宽比掩膜刻蚀的ICP刻蚀机目前在生产线上验证顺利★★ღღ，工艺能力可以满足国内最先进的存储芯片制造的需求★★ღღ。此外★★ღღ，用于超高深宽比介质刻蚀的CCP刻蚀设备也已量产★★ღღ。（2）MOCVD设备★★ღღ：用于制造深紫外光LED的高温MOCVD设备PRISMO HiT3和用于硅基氮化镓功率器件的MOCVD设备PRISMO PD5已在客户生产线上验证通过并获得重复订单★★ღღ；用于Mini-LED生产的MOCVD设备PRISMO UniMax亦开始进行规模化生产★★ღღ。（3）薄膜沉积设备★★ღღ：公司已经实现六种薄膜沉积设备的高效研发与交付★★ღღ，其中LPCVD薄膜设备累计出货量已突破150个反应台★★ღღ，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目的研发进程均比较顺利★★ღღ，有望尽快进入客户验证阶段★★ღღ。我们认为★★ღღ：随公司设备高端化与平台化战略逐步起效★★ღღ，公司市场空间与盈利能力同步提升★★ღღ，有望在未来为业绩增长做出贡献★★ღღ。 风险提示★★ღღ：下游晶圆厂扩产幅度不及预期★★ღღ，新品研发及导入进度不及预期★★ღღ。